掩模版缺陷检测解决方案

发布者： 发布时间：1970-01-01 分享：

产品配套：

        菲涅尔1倍16K线扫远心镜头，vieworks16K线扫相机，外部同轴光源或者背光

行业背景：

         国产半导体行业的发展，在掩模版缺陷检查行业。愈来愈希望更多的国产替代，菲涅尔光学根据行业发展和应用实例。推出了5um线宽，高速缺陷检查方案。

项目痛点：

        部分掩模版线宽，非常细密。要求成像系统的分辨能力出众，并且能兼顾大视野的要求。

解决方法：

        菲涅尔光学设计的1倍16K线扫远心镜头，具有亮度高（可调），视野范围内均匀，分辨率达到5um水准。并且成功进入知名企业设备，量产应用

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